PVD是Physical Vapor Deposition的缩写，即物理气相沉积。PVD是一种在真空条件下，用物理的方法在加工件上的制备一层薄膜的技术。 

合生涂层设备采用的是直流磁控溅射和线性离子束复合技术。 直流磁控溅射的工作原理： 在直流电场作用下，大量的Ar离子轰击阴极靶材表面形成溅射，使靶材表面材料以原子或分子形式脱离并向阳极工件表面运动，最终在工件表面形成一层薄膜。 线性离子束技术原理： 在真空条件下（1.0×10-1~1.0×10Pa) ，利用在阴阳极板间电离碳氢气体放电，并利用电场的加速作用，使被电离的碳氢基团沉积在工件上。 

PVD涂层技术是一种真正能获得微米级涂层、无污染的环保型表表面处理方法。

PVD镀膜的厚度为微米级，一般为1μm 到 3μm，因此几乎可以在不影响工件原始尺寸的情况下改善工件表表面的各种理化性能，镀后无需进一步加工。